特許

J-GLOBAL ID：200903050014916949

スルホニウム化合物の製造方法

発明者： 松崎 健太郎 ,  河岡 良明 ,  勝屋 均
出願人/特許権者： 三新化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-080188
公開番号（公開出願番号）：特開平11-255739
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【構成】4-ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム ハライドとMY(M=アルカリ金属、Y=SbF6,PF6,AsF6,BF4のいずれか)とを水と酢酸エチルの存在下、pH2〜5の酸性緩衡液、特に酢酸-酢酸塩中で塩交換反応させて4-ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム ポリフルオライド化合物を製造する。【効果】この製造方法によれば、エポキシ樹脂やスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合開始剤として効果を有するスルホニウム化合物が高純度、高収率で得られる。

請求項（抜粋）：

化1で表されるスルホニウム化合物とMYで表される塩を水と酢酸エチルの存在下、pH2〜5で反応させることを特徴とする化2で表されるスルホニウム化合物の製造方法。【化1】【化2】(ただし、式中R1は、水素,ハロゲン,炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを、R2は、炭素数1〜4のアルキル基またはベンジル基を、R3は、炭素数1〜4のアルキル基,ベンジル基,ハロゲノベンジル基,メチルベンジル基,ジメチルベンジル基,トリメチルベンジル基,メトキシベンジル基,ジクロルベンジル基,トリクロルベンジル基,ニトロベンジル基,ジニトロベンジル基,トリニトロベンジル基,α-ナフチルメチル基,β-ナフチルメチル基のいずれかを、Xは、ハロゲン原子、Mはアルカリ金属、YはSbF6,PF6,AsF6,BF4のいずれかを示す。)