特許

J-GLOBAL ID：200903050028447208

面形状等を測定するための干渉計及びその測定方法

発明者： 須原 浩之
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361647
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174233
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 球面のみならず非球面レンズの形状等を高精度且つ効率的に測定可能な干渉計及びその測定方法を提供する。【解決手段】 本発明の干渉計は、光源1からの可干渉光束を参照波と被検波とに分け、上記参照波に被測定面7aに相当する波面を形成する波面形成手段6a,8,9と、上記参照波と被検波とを重畳して撮像手段11より取り込んだ干渉縞データを基に面形状や面精度を演算可能とするもので、上記被測定面7aへ照射される参照波の位相を任意に変調可能な位相制御素子9を有する。上記演算手段12は、上記位相制御素子9により参照波の位相分布を被測定面7aに合わせ、撮像手段11でヌルの干渉縞を観測できるように補正した出力データを解析する。

請求項（抜粋）：

同一光源から出射された可干渉光束を参照波と被検波とに分ける手段と、上記参照波に被検物の被測定面に相当する波面を形成する波面形成手段と、上記参照波と被検波とを重畳させる重畳手段と、該重畳手段を介して形成される干渉縞を観測する撮像手段と、該撮像手段の出力データを取り込んで上記被測定面の面形状や面精度を算出する演算手段と、を備えた干渉計において、上記波面形成手段は、被測定面へ照射される参照波の位相を任意に変調可能な位相制御素子を有するとともに、上記演算手段が、上記位相制御素子による位相変調量に基づいて上記撮像手段の出力データを解析するとしたことを特徴とする面形状を測定する干渉計。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/30 102

FI (3件)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/30 102 B ,  G01B 11/24 D

Fターム (51件)：

2F064AA09 ,  2F064BB03 ,  2F064CC03 ,  2F064EE01 ,  2F064EE05 ,  2F064FF02 ,  2F064GG00 ,  2F064GG13 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG32 ,  2F064GG38 ,  2F064GG49 ,  2F064GG53 ,  2F064HH02 ,  2F064HH03 ,  2F064HH07 ,  2F064HH08 ,  2F064KK04 ,  2F065AA45 ,  2F065BB05 ,  2F065BB23 ,  2F065CC22 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF39 ,  2F065FF55 ,  2F065FF61 ,  2F065GG05 ,  2F065GG06 ,  2F065GG12 ,  2F065GG22 ,  2F065HH03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065KK01 ,  2F065LL04 ,  2F065LL09 ,  2F065LL21 ,  2F065LL30 ,  2F065LL36 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL51 ,  2F065NN05 ,  2F065PP22 ,  2F065SS13 ,  2F065UU07