特許
J-GLOBAL ID：200903050030891832
マスクブランクス用ガラス基板、及び転写マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
池田 憲保
, 福田 修一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-350538
公開番号（公開出願番号）：特開2006-146250
出願日： 2005年12月05日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 ガラス基板表面近傍のキズ等の表面欠陥がなく、また、ガラス基板端面の縁だれの少ない電子デバイス用ガラス基板の製造方法、および膜下欠陥のないフォトマスクブランクの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板表面を、比較的大きな研磨砥粒を用いて研磨する粗研磨工程の後、比較的小さな研磨砥粒を用いて研磨する精密研磨工程を行ってガラス基板を製造する電子デバイス用ガラス基板の製造方法において、前記精密研磨工程を行う前に、ガラス基板表面をエッチング処理(好ましくはアルカリ水溶液を用いる)することにより、前記ガラス基板表面から深さ方向に延び、前記精密研磨工程後に残存するクラックを、前記精密研磨工程後に行う欠陥検査工程で顕在化させることを特徴とする電子デバイス用ガラス基板の製造方法、並びにフォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
エッチング処理後、精密研磨工程を含む後処理工程を経て得られたArF又はF2エキシマレーザ用マスクブランクス用ガラス基板において、前記ガラス基板の主表面の表面粗さが二乗平均平方根粗さ(RMS:Root Mean Square)で0.2nm以下であることを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, C03C 19/00
, C03C 15/02
G03F1/14 A
, C03C19/00 Z
, C03C15/02
2H095BC26
, 2H095BD01
, 4G059AA11
, 4G059AB03
, 4G059AB11
, 4G059AC03
, 4G059BB04
, 4G059BB14
出願人引用 (2件)
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特開平1-40267号公報
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国際公開第01/09680号公報
審査官引用 (7件)
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