特許

J-GLOBAL ID：200903050034155138

洗浄装置、および洗浄方法

発明者： 丹生谷 貴行
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-157057
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347261
出願日： 2002年05月30日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：

【要約】【課題】 超臨界流体に対する溶解性が高くない物質でも効果的に除去できる洗浄装置、洗浄方法を提供する。【解決手段】 基板を鉛直方向または水平から傾いた方向に配置する洗浄室と、前記洗浄室内に超臨界流体を供給する超臨界流体供給部と、から洗浄装置を構成する。基板を超臨界流体で処理するときに、基板を水平から傾けた方向に配置されていることで、超臨界流体に溶けにくい物質でも、超臨界流体との比重の相違に起因して基板から除去され易くなる。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向または水平から傾いた方向に配置する洗浄室と、前記洗浄室内に超臨界流体を供給する超臨界流体供給部と、を具備することを特徴とする洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 641 ,  B08B 3/04 ,  B08B 3/14 ,  B08B 7/00

FI (4件)：

H01L 21/304 641 ,  B08B 3/04 Z ,  B08B 3/14 ,  B08B 7/00

Fターム (19件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116BB03 ,  3B116BB90 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC15 ,  3B201CD22