感刺激性組成物及び化合物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-068447
公開番号（公開出願番号）：特開2004-277303
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】高感度で、良好なプロファイルを示す感刺激性組成物、また、200nm以下、特にF2レーザー光(157nm)の露光波長において高感度の感光性組成物、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する新規な化合物を提供する。【解決手段】外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する橋架け環状構造を有する特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物、及び橋架け環状構造を有する特定構造の化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。

IPC (4件)：

C07C381/12 , C07D333/46 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (4件)：

C07C381/12 , C07D333/46 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (18件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AB03 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA48 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB78 , 4H006TN40

引用特許：

審査官引用 (5件)

光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-369145 出願人：信越化学工業株式会社
特開昭61-050959
特開昭61-050959

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引用文献：

審査官引用 (2件)

Synthesis, 1997, (6), p.623-624
Synthesis, 1997, (6), p.623-624

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