特許
J-GLOBAL ID：200903050045174452
粒子製造装置および粒子の製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-374175
公開番号（公開出願番号）：特開2005-137955
出願日： 2003年11月04日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 粒度分布が狭い粒子を製造する手段を提供する。【解決手段】 形成される粒子の原料を含むエマルジョンを、前記エマルジョンの液滴として噴出させる、インクジェットヘッド104と、前記インクジェットヘッド104から噴出された前記液滴を乾燥させる乾燥炉106と、前記乾燥炉106において乾燥した前記液滴を焼成させる焼成炉108とを有する粒子製造装置である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
形成される粒子の原料を含むエマルジョンを、前記エマルジョンの液滴として噴出させる、インクジェットヘッドと、
前記インクジェットヘッドから噴出された前記液滴を乾燥させる乾燥炉と、
前記乾燥炉において乾燥した前記液滴を焼成させる焼成炉と、を有する粒子製造装置。
IPC (3件)：
B01J2/04
, C01B13/32
, C01G45/00
B01J2/04
, C01B13/32
, C01G45/00
4G004EA04
, 4G004EA05
, 4G042DA02
, 4G042DB08
, 4G042DC03
, 4G042DE03
, 4G042DE06
, 4G042DE15
, 4G048AA04
, 4G048AB02
, 4G048AC06
, 4G048AD03
, 4G048AE07
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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