自立薄膜評価装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135700
公開番号（公開出願番号）：特開2000-329669
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【目的】荷電粒子線用転写マスクブランクスのメンブレンの精度の良い評価が可能な自立薄膜評価装置を提供する。【解決手段】評価サンプル設置部分に相当する位置に開口を有し、その開口部付近に、サンプル保持機構を備えるとともに、圧力調整部と圧力計とを備えた圧力調整チャンバーと、膨らみ量測定装置と、を備えた自立薄膜評価装置において、前記サンプル保持機構が、前記圧力調整チャンバーの開口端部に設けられた逃げ溝によって形成された保持部と、その保持部の中心に対応する位置に荷重の支点を有する押さえ部と、を備えていることを特徴とする自立薄膜評価装置。

請求項（抜粋）：

評価サンプル設置部分に相当する位置に開口を有し、その開口部付近に、サンプル保持機構を備えるとともに、圧力調整部と圧力計とを備えた圧力調整チャンバーと、膨らみ量測定装置と、を備えた自立薄膜評価装置において、前記サンプル保持機構が、前記圧力調整チャンバーの開口端部に設けられた逃げ溝によって形成された保持部と、その保持部の中心に対応する位置に荷重の支点を有する押さえ部と、を備えていることを特徴とする自立薄膜評価装置。

Fターム (4件)：

2G061CB20 , 2G061DA16 , 2G061EA02 , 2G061EA05

前のページに戻る