特許

J-GLOBAL ID：200903050055623891

半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法

発明者： 上柳 喜一
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-056363
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250251
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】 微小開口から放射されるレーザ光の強度を増大させることにより、記録媒体の高記録密度化が可能となり、小型化およびデータ転送レートの向上を図った半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法を提供する。【解決手段】 この半導体レーザ2は、微小開口5内に低反射多層膜10bを埋め込み、さらに、開口部5aの表面3側に高屈折率のTiO2膜5bを配置している。レーザ光は、TiO2膜5b中で波長が短くなり、金属遮光体4に設けた開口5から近接場光が染み出し易くなる。

請求項（抜粋）：

【請求項1】レーザ光出力側に位置し共振器の一部を構成する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口内にレーザ光透過性の材料が埋め込まれてなることを特徴とする半導体レーザ。

IPC (6件)：

G11B 7/125 ,  G11B 7/12 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22 ,  H01S 5/028 ,  H01S 5/183

FI (6件)：

G11B 7/125 A ,  G11B 7/12 ,  G11B 7/135 Z ,  G11B 7/22 ,  H01S 5/028 ,  H01S 5/183

Fターム (20件)：

5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119FA05 ,  5D119FA18 ,  5D119FA19 ,  5D119FA21 ,  5D119MA06 ,  5D119NA04 ,  5F073AA13 ,  5F073AA67 ,  5F073AA83 ,  5F073AB17 ,  5F073BA06 ,  5F073CA14 ,  5F073CB02 ,  5F073DA22 ,  5F073DA33 ,  5F073EA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• エバネセント光ヘッド及び光情報記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-168646   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-003385
  
• 半導体レーザとこれを利用した浮上型光ピックアップ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-171744   出願人：サムソンエレクトロニクスカンパニーリミテッド