特許
J-GLOBAL ID：200903050059217405
磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-173890
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351207
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 高記録密度の磁気抵抗効果型ヘッドを歩留まり良く安定して製造することができる磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 磁気抵抗効果型素子を有して成る磁気抵抗効果型ヘッドを製造する際に、感光性材料によりパターニングして磁気抵抗効果素子を形成する工程において、再生トラック幅を規制する部分の感光性材料のパターン42Aの幅X1を、この部分に隣接する部分のパターン42Bの幅X2より狭く形成すると共に、この部分42Aの全長Yを後に形成される磁気抵抗効果素子の高さ以上2.5μm以下とする。
請求項（抜粋）：
磁気抵抗効果型素子を有して成る磁気抵抗効果型ヘッドを製造する方法であって、感光性材料によりパターニングして上記磁気抵抗効果素子を形成する工程において、再生トラック幅を規制する部分の上記感光性材料のパターンの幅を、該再生トラック幅を規制する部分に隣接する部分の上記感光性材料のパターンの幅より狭く形成し、上記再生トラック幅を規制する部分の全長を、後に形成される上記磁気抵抗効果素子の高さ以上2.5μm以下とすることを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。
Fターム (3件)：
5D034BA02
, 5D034BB01
, 5D034DA07
