特許

J-GLOBAL ID：200903050059511516

回転式基板処理装置

発明者： 矢部 学 ,  中村 靖 ,  内谷 耕二
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-105867
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290198
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 基板の裏面の汚染を生じさせることなく基板の回転処理が可能な回転式基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板保持台の底板2には基板押し上げピン8を通過させるための複数の貫通孔部7が設けられている。貫通孔部7には弾性シール部材15が取り付けられている。弾性シール部材15は、その周縁を押さえリング16により支持され、その中心から放射状に切り込みが設けられている。弾性シール部材15はゴム材からなり、基板押し上げピン8が通過する際には、弾性変形して基板押し上げピン8の通過を許容し、基板押し上げピン8が待機状態にある場合には、弾性復元力により、貫通孔7aを閉塞する状態に復帰する。

請求項（抜粋）：

貫通孔が形成された底板を有し、前記底板の上方に所定の空間を隔てて基板を水平に保持して回転する基板保持部材と、前記基板保持部材を鉛直方向の軸の周りで回転駆動する回転駆動手段と、前記底板の前記貫通孔を通して昇降可能に形成され、上昇時に前記基板保持部材に保持された前記基板を上方に押し上げるピン部材と、前記基板保持部材の前記貫通孔をほぼ閉塞するように設けられ、前記ピン部材の上昇時には前記ピン部材の通過を許容するシール部材とを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。