電子ビーム・マイクロスコピーを用いた自動マスク検査装置及び方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-126723
公開番号（公開出願番号）：特開平8-068772
出願日： 1995年05月25日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】本発明は、位相シフトマスク或いは他の光学マスク特性に於て必要な項目を自動的に検査する事が出来るような検査システム及び検査方法を提供することを目的にする。【構成】本発明の自動光学マスク検査システムは、電導性マスク層を形成する為の薄膜形成装置と、その電導性薄膜電位を電気的に接地する為の接地結線手段と、電界放射に依る電子ビーム源と、その電子ビームを掃引走査する事を可能にする為の荷電粒子線制御筒と、後方散乱電子波形を検出し出力する散乱電子検出器と、2次電子を検出し2次電子波形を出力する2次電子検出器をもって構成する。

請求項（抜粋）：

光学マスクの表面を電導性薄膜にて被覆することに依り電導性マスク層を形成する為の薄膜形成装置と;その電導性薄膜電位を電気的に接地する為の接地結線手段と;電子ビームを発生させる為の電子ビーム源と;その電子ビームを電導性マスクの表面上に送ってそこでビームを掃引走査する事を可能にする為の荷電粒子線制御筒と;電導性マスクの表面から後方散乱される電子を検出し、且つ電子ビームが電導表面を走査する間、後方散乱電子波形を出力する散乱電子検出器と;電導性マスク表面から2次放出される2次電子を検出し、且つ2次電子が電導表面を走査する間、2次電子波形を出力する2次電子検出器とを;具備する自動光学マスク検査システム。

IPC (6件)：

G01N 23/225 , G01M 11/00 , G01N 23/203 , G21K 5/04 , H01J 37/28 , H01L 21/66

引用特許：

審査官引用 (5件)

電子ビーム検査方法とそのシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124951 出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
特開昭58-119641
特開平2-205762

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