特許

J-GLOBAL ID：200903050080526710

超分子薄膜の製造方法

発明者： 久田 研次 ,  徳永 雄次
出願人/特許権者： 徳永 雄次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-274471
公開番号（公開出願番号）：特開2004-105896
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】疎水性化合物に予め極性の官能基を導入したり、球状分子を化学修飾することなく、簡便に強度および安定性を有する超分子薄膜を大面積状に形成できると共に多層累積膜を容易かつ確実に形成できるようにすることである。【解決手段】易溶性ホスト分子の易溶液上に難溶性球状ゲスト分子を分散させ、気液界面において易溶性ホスト分子と難溶性球状ゲスト分子の間に働くホスト-ゲスト相互作用により両親媒性超分子を調製せしめて気液界面に超分子膜を形成し、前記超分子膜を基板上に移するようにしてある。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

易溶性ホスト分子が溶解された下層液上に難溶性球状ゲスト分子を分散させ、気液界面において易溶性ホスト分子と難溶性球状ゲスト分子間に働くホスト-ゲスト相互作用により両親媒性超分子を調製せしめて気液界面に超分子膜を形成し、前記超分子膜を基板上に移し取ることを特徴とする超分子薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

B05D1/20 ,  B01J19/00 ,  B32B9/00

FI (3件)：

B05D1/20 ,  B01J19/00 K ,  B32B9/00 Z

Fターム (32件)：

4D075AB25 ,  4D075AB37 ,  4D075AB55 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC18 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4D075EB11 ,  4F100AA20A ,  4F100AB11A ,  4F100AG00A ,  4F100AH03B ,  4F100AH03C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100EG00 ,  4F100JK01 ,  4F100JL02 ,  4F100JM03B ,  4F100JM03C ,  4G075AA25 ,  4G075BD16 ,  4G075CA57 ,  4G075EB01 ,  4G075EC09 ,  4G075EC12