特許
J-GLOBAL ID:200903050094073351
テトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)及び置換オニウムテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-330140
公開番号(公開出願番号):特開2002-138091
出願日: 2000年10月30日
公開日(公表日): 2002年05月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 合成における有機溶媒への溶解性がよく、イオン性不純物の残存がないテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法を提供する。【解決手段】 酸化ホウ素と、カルボン酸無水物、カルボン酸、アミンとを反応させる一般式1のテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。(R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)
請求項(抜粋):
一般式(1)で表されるテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)が、酸化ホウ素、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物、一般式(2)で表されるカルボン酸無水物の加水分解生成物である一般式(3)で表されるカルボン酸、一般式(4)で表されるアミンとを反応させて得られることを特徴とするテトラキス(アシロキシ)ボレート(1-)の合成方法。【化1】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基、R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)【化2】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化3】(R1は、アルキル基、アリール基、アラルキル基からなる群より選ばれる基)【化4】( R2〜R4はアルキル基、アリール基又はR2〜R4の3つの置換基のうち少なくとも2つの置換基が環を形成する置換基)
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
4H048AA02
, 4H048AC90
, 4H048BE90
, 4H048VA20
, 4H048VA30
, 4H048VA75
, 4H048VB10
, 4J036AA01
, 4J036DD09
, 4J036GA06
引用特許:
審査官引用 (3件)
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樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-340126
出願人:住友ベークライト株式会社
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リン系潜伏性触媒の合成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-012488
出願人:住友ベークライト株式会社
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特開平4-243882
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