特許

J-GLOBAL ID：200903050095831691

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 林 俊一 ,  東 一美
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-279513
公開番号（公開出願番号）：特開2000-112126
出願日： 1998年10月01日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 感度や解像度に優れ、さらに、基材との接着力が強固であり、実用的な製造プロセスに好適に用いることができるネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ポリアミド酸に、特定の構造を有する2種類の1,4-ジヒドロピリジン誘導体を感光剤として含有させることによって、ネガ型フォトレジスト組成物を得ることができる。

請求項（抜粋）：

ポリアミド酸と一般式(1)【化1】(式中、Arは、オルソ位にニトロ基を有する芳香族基を示し、R1は炭素数1〜5のアルキレン基、R2、R3、R4及びR5は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表される1,4-ジヒドロピリジン誘導体及び一般式(2)【化2】(式中、Arは、オルソ位にニトロ基を有する芳香族基を示し、R6は炭素数1〜5のアルキル基、R7、R8、R9及びR10は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表される1,4-ジヒドロピリジン誘導体を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 504 ,  G03F 7/027 514 ,  H05K 3/18

FI (3件)：

G03F 7/038 504 ,  G03F 7/027 514 ,  H05K 3/18 D

Fターム (22件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025CA28 ,  2H025CB25 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  5E343AA18 ,  5E343AA33 ,  5E343BB24 ,  5E343CC63 ,  5E343ER38 ,  5E343ER39 ,  5E343GG13 ,  5E343GG16