特許

J-GLOBAL ID：200903050112196431

基板処理装置

発明者： 泉 昭
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-005202
公開番号（公開出願番号）：特開2005-203403
出願日： 2004年01月13日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：

【課題】 基板へのダメージを低減しつつ、効率良く基板を処理することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 超音波ノズル68から吐出される処理液に向けて、処理液と所定の間隔を隔てて配置された流体供給ノズル80から窒素ガスを供給することによって処理液の流路を吐出方向P1から曲折方向P2へと曲折させる。これにより、基板W上に到達する超音波振動を減衰させることができ、基板Wへのダメージが低減される。しかも、処理液とともに基板Wに送り込まれるキャビテーションによる気泡により、効率良く基板を洗浄することができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板の被処理面に処理液を供給して前記基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、 処理液に超音波を付与するとともに、該処理液を吐出する超音波ノズルと、 前記超音波ノズルから吐出される処理液に流体を供給することによって、該処理液の流路を前記基板に向けて曲折させる流路曲折手段と を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

FI (6件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 643D ,  B08B3/02 B ,  B08B3/12 C ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500

Fターム (14件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA01 ,  3B201AB33 ,  3B201BB22 ,  3B201BB83 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体基板の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-263669   出願人：株式会社東芝