特許

J-GLOBAL ID：200903050115186062

光ディスクの原盤作製方法及び光ディスク

発明者： 佐野 一彦
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-334510
公開番号（公開出願番号）：特開2002-140841
出願日： 2000年11月01日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】 レーザビームの強度分布に依存せず、側壁傾斜角度θの大きなピットを形成することができる光ディスクの原盤作製方法及び光ディスクを提供する。【解決手段】 レーザビーム4による信号記録後、露光されなかったレジスト膜表面をシリル化し、シリル化された膜14をマスクにドライ現像し、側壁傾斜角度の大きいピット16を形成し、ディスクの高密度化を図る。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト膜が形成されかつ回転するガラス盤に、信号変調され記録レンズによって絞られたレーザビームを上記ガラス盤の半径方向に沿って上記フォトレジスト膜に照射して上記フォトレジスト膜を露光させて露光部を形成し、その後、上記レーザビームが照射されず露光されなかった上記フォトレジスト膜の未露光部の表面にシリコン化合物を形成し、上記シリコン化合物をマスクとするドライ現像によって上記露光部に側壁傾斜角度が70度以上のピットを形成して光ディスクの原盤を作製する光ディスクの原盤作製方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531

Fターム (4件)：

5D121BB01 ,  5D121BB08 ,  5D121BB33 ,  5D121CB07