特許
J-GLOBAL ID：200903050116223700
平版投影装置用の照射源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404229
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311799
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 平板投影装置用の照射源として使用しうるEUV放射線を放射する改良されたプラズマ源を提供する。【解決手段】 平板投影装置の照射系の照射源220は放電がピンチ容積229内へ崩壊するように間に放電を生じさせる電極221,222を含む。崩壊する放電はピンチ容積において強くイオン化された、高温のプラズマを生じさせる。供給源227の作業流体が噴射ノズルからピンチ容積内へ放出され、それにより高温状態まで昇温され、遠紫外線PBを放射する。
請求項（抜粋）：
遠紫外線電磁放射線用のプラズマ照射源において、高電位源に接続され、第1のプラズマ状態が該第1のプラズマ状態と対応の電磁界に誘導された電流によってピンチ容積に圧縮されうるように構成配置された電極と、高温のプラズマ状態にされて遠紫外電磁放射線を放射する作業流体の供給源と、前記第1のプラズマ状態を前記ピンチ容積内へ圧縮することによって前記高温のプラズマ状態にされるように前記作業流体を前記ピンチ容積内に排出するように構成配置された一次噴射ノズルとを含むことを特徴とする遠紫外線電磁放射線用のプラズマ照射源。
IPC (7件)：
G21K 5/00
, B01J 19/08
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H05H 1/06
, H05H 1/24
G21K 5/00 Z
, B01J 19/08 E
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
, H05H 1/06
, H05H 1/24
, H01L 21/30 531 S
