特許

J-GLOBAL ID：200903050142577197

荷電粒子線転写装置

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-222492
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078736
出願日： 1993年09月07日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】 露光精度とスループットとを両立できる荷電粒子線転写装置を提供する。【構成】 マスク15上に設定された少なくとも一つの主視野MFを一方向へ複数の副視野SFに分割し、一方向への荷電粒子線の偏向量の調整により分割された副視野SFに順次荷電粒子線を照射して主視野MF全体に形成されたパターンを試料へ転写する荷電粒子線転写装置において、副視野SFを、前記一方向の幅Lxがこれと直交する方向の幅Lyよりも短くなるように設定する。

請求項（抜粋）：

マスク上に設定された少なくとも一つの主視野を一方向へ複数の副視野に分割し、前記一方向への荷電粒子線の偏向量の調整により分割された副視野に順次荷電粒子線を照射して主視野全体に形成されたパターンを試料へ転写する荷電粒子線転写装置において、前記副視野を、前記一方向の幅がこれと直交する方向の幅よりも短くなるように設定することを特徴とする荷電粒子線転写装置。