特許
J-GLOBAL ID:200903050156076999

積層造形方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-047719
公開番号(公開出願番号):特開平11-005254
出願日: 1998年02月27日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】【課題】造形物の表層部の輪郭の精度を確保しつつ、レーザビームの照射時間の短縮化に貢献でき、生産性の向上に有利な積層造形方法を提供すること。【解決手段】レーザビームの照射により固化する材料にレーザビームを照射して固化層10を形成し、固化層10を積層して三次元造形物を形成する。三次元造形物の表層部を形成する部分と、三次元造形物の内部を形成する部分とでレーザビームのビーム径を使い分け、内部を形成する部分には太いレーザビームM1を照射し、表層部を形成する部分には細いレーザビームM2を照射する。
請求項(抜粋):
レーザビームの照射により固化する材料にレーザビームを照射して固化層を形成し、前記固化層を積層して三次元造形物を形成する積層造形方法において、レーザビームを照射する際に、前記三次元造形物の表層部を形成する部分と、前記三次元造形物の内部を形成する部分とでレーザビームのビーム径を使い分け、前記内部を形成する部分には太いレーザビームを照射し、前記表層部を形成する部分には太いレーザビームよりも細いレーザビームを照射することを特徴とする積層造形方法。
IPC (2件):
B29C 67/00 ,  B29K105:24
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平3-042233

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