プラズマエッチング装置およびエッチング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-081466
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280357
出願日： 2001年03月21日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】プラズマの制御と、エッチング均一性およびエッチング選択性の向上が可能であるプラズマエッチング装置およびエッチング方法を提供する。【解決手段】ウェハ109が載置される下部電極110と、供給されるガスを分散させるシャワーヘッド部103とを有し、シャワーヘッド部103からガスを供給し、下部電極110とシャワーヘッド部103との間で放電させてプラズマを発生させ、ウェハ109にエッチングを行うプラズマエッチング装置101であって、シャワーヘッド部103は互いに隔絶された複数の内部領域103a、103b、103cを有し、内部領域のそれぞれに互いに異なるガスを供給するガス供給手段106a、106b、106cと、ガスの流量を独立して制御するガス流量制御手段107a、107b、107cとを有するプラズマエッチング装置、およびそれを用いたエッチング方法。

請求項（抜粋）：

反応室内に形成された、被エッチング基板が載置される基体と、前記基体の上部に前記基体と対向するように配置され、供給されるガスを分散させるシャワーヘッド部とを有し、前記シャワーヘッド部から前記反応室内にガスを供給し、前記基体と前記シャワーヘッド部との間で放電させてプラズマを発生させ、前記被エッチング基板にエッチングを行うプラズマエッチング装置であって、前記シャワーヘッド部は互いに隔絶された複数の内部領域を有し、前記内部領域のそれぞれに、互いに異なるガスを供給するガス供給手段と、前記内部領域に供給されるガスの流量を、前記内部領域ごとに独立して制御するガス流量制御手段とを有するプラズマエッチング装置。

Fターム (6件)：

5F004BA04 , 5F004BB28 , 5F004BC03 , 5F004CA02 , 5F004DA00 , 5F004DB03

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