プラズマ処理容器内部材

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398334
公開番号（公開出願番号）：特開2004-190136
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】トップコート層として形成した溶射被膜の剥がれを抑制することができるプラズマ処理容器内部材を提供すること。【解決手段】基材71と溶射被膜72との間に、ハロゲン元素を含むプロセスガスに対して耐腐食性に優れる材料からなるバリアコート層74を形成し、このバリアコート層74に樹脂またはゾルゲル法で封孔処理する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基材と、その表面にセラミックスの溶射によって形成された被膜とを有するプラズマ処理容器内部材であって、前記被膜を構成するセラミックスは、B、Mg、Al、Si、Ca、Cr、Y、Zr、Ta、CeおよびNdからなる群から選択された少なくとも1種の元素を含み、その少なくとも一部分が樹脂によって封孔処理されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。

IPC (5件)：

C23F4/00 , C23C4/10 , C23C4/18 , C23C16/44 , C23C28/00

FI (5件)：

C23F4/00 A , C23C4/10 , C23C4/18 , C23C16/44 B , C23C28/00 Z

Fターム (48件)：

4K030KA30 , 4K030KA47 , 4K031AA01 , 4K031AB02 , 4K031AB03 , 4K031BA05 , 4K031CB41 , 4K031CB42 , 4K031CB43 , 4K031CB45 , 4K031CB46 , 4K031CB48 , 4K031FA07 , 4K031FA08 , 4K031FA10 , 4K044AA06 , 4K044AB10 , 4K044BA12 , 4K044BA13 , 4K044BA14 , 4K044BA18 , 4K044BA21 , 4K044BB03 , 4K044BB04 , 4K044BB05 , 4K044BC02 , 4K044BC05 , 4K044CA11 , 4K044CA13 , 4K044CA14 , 4K044CA16 , 4K044CA24 , 4K044CA27 , 4K044CA53 , 4K044CA59 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DE01 , 4K057DE04 , 4K057DE06 , 4K057DE09 , 4K057DE11 , 4K057DM02 , 4K057DM14 , 4K057DM35 , 4K057DM37 , 4K057DM38 , 4K057DM39

引用特許：

出願人引用 (5件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-169209 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
プラズマ処理装置の減圧方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-323143 出願人：住友金属工業株式会社
電子部品のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-211519 出願人：松下電器産業株式会社

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審査官引用 (14件)

真空処理装置用部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-326148 出願人：太平洋セメント株式会社
耐食性部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328449 出願人：京セラ株式会社
複合材の無機化合物による封孔処理法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-287412 出願人：守屋公一, 大森明

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