特許

J-GLOBAL ID：200903050159701339

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-188054
公開番号（公開出願番号）：特開2004-029542
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適な感光性樹脂組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、塗布性、膜厚均一性、現像液親和性、画像形成性、耐ドライエッチング性の諸特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】フッ素原子、塩素原子、水酸基、シアノ基、アルキル基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる基を少なくとも1つ有する脂環構造を有し、少なくとも一つのフッ素原子を有する繰り返し単位(Y)を有する樹脂(A)及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

フッ素原子、塩素原子、水酸基、シアノ基、アルキル基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる基を少なくとも1つ有する脂環構造及び少なくとも一つのフッ素原子を有する繰り返し単位(Y)を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂(A)及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F14/18 ,  C08F20/16 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F14/18 ,  C08F20/16 ,  H01L21/30 502R

Fターム (42件)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AD13Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM02R ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40P ,  4J100BB07P ,  4J100BB10P ,  4J100BB10Q ,  4J100BB10R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R