特許

J-GLOBAL ID：200903050166118193

レジストパターンの形成方法

発明者： 伊東 由夫 ,  町田 哲志 ,  黒川 博孝
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-283376
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251337
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 処理ライン間において処理ユニットに関連性を持たせることにより、処理ユニットの処理能力の差により生じるウエハ処理待ちの時間の発生をなくし、また、一部の処理ユニットの停止による処理ライン全体の停止を防止し、処理の効率の低下を防ぎ、生産性を向上させる。【構成】 12台の露光装置本体1a〜1l及び12台の制御ラック2a〜2lは環状に配置され、インターフェイスユニット3は12台の露光装置本体1a〜1lと自由にウエハの受渡しができるインターフェイス機能と搬送機能とを備えている。この内側にはホトレジストコーティング処理ユニット5a〜5lと現像処理ユニット7a〜7lが配置され、ユニット3との間に自由にウエハの受渡しができる。処理ユニット5a〜5lとユニット7a〜7lの内側には搬送ユニット4が配置される。搬送ユニット4はベーク処理ユニット6a〜6lと8a〜8lと処理ユニット5a〜5lと現像処理ユニット7a〜7lとの間でウエハの受渡しを行う。

請求項（抜粋）：

少なくともレジスト塗布処理と露光処理と現像処理を含む複数の処理工程からなるホトリソグラフィ工程におけるレジストパターンの形成方法において,(a)それぞれの前記処理を並列的な複数の独立した処理部からなる群により形成し、(b)該群間における処理部の接続を多岐的接続として処理群間の接続に自由度を持たせることを特徴とするレジストパターンの形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/26