特許
J-GLOBAL ID：200903050173566304
高周波加熱装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-235915
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074561
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、加熱室の高さを120mm以下に薄型化しても、高周波エネルギーを加熱室内に導くことが可能で被加熱物を均一に加熱することを目的とする。【構成】 加熱室1の高さを120mm以下の立方体状に形成し、高周波発生装置7で発生させるマイクロ波の周波数を5.8GHzに設定したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
加熱室に収納した被加熱物を高周波発生装置で発生させたマイクロ波で加熱する高周波加熱装置であって、前記加熱室は高さが120mm以下の直方体状に形成し、前記高周波発生装置で発生させるマイクロ波の周波数は5.8GHzに設定してなることを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (2件)：
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