特許
J-GLOBAL ID：200903050176286833
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-227847
公開番号（公開出願番号）：特開平8-096322
出願日： 1994年09月22日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】 基板の変形に拘わらず、該基板を均一に研磨する。【構成】 スパッタリングによりAl2 O3 等の酸化物膜24を成膜したことにより変形したAl2 O3 -TiC等からなる基板25を、該基板25の変形した形状に応じた研磨定盤1により研磨する。その後、平坦化された酸化物膜上に薄膜ヘッド素子を形成する。
請求項（抜粋）：
基板の一主面に酸化物膜を成膜する工程と、上記酸化物膜を成膜したことにより変形した基板の形状に応じた研磨定盤により、上記酸化物膜を研磨する工程と、上記研磨された酸化物膜上に薄膜ヘッド素子を形成する工程とからなる薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
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