特許
J-GLOBAL ID:200903050181351503

インクジェットノズルプレートおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-025430
公開番号(公開出願番号):特開平9-216368
出願日: 1996年02月13日
公開日(公表日): 1997年08月19日
要約:
【要約】【解決手段】 SOI基板1の活性層4にプラズマエッチングにより、オリフィス2を形成し、SOI基板1の支持体5の対応する部分にテーパ部3を形成することにより、インクジェットノズルプレートを形成する。また、テーパ部3はアルカリ異方性エッチングまたはアルカリ異方性エッチングに続いてプラズマエッチングを行うことにより形成する。また、活性層4がCVD法により形成されているSOI基板を用いて、インクジェットノズルプレートを形成する。【効果】 形状精度の高いオリフィスおよびテーパ部を安価に製造することができ、したがって印字品質に優れたインクジェット記録装置を安価に提供できる。
請求項(抜粋):
インクジェット記録装置に用いられ、Si基板を構成部材とするインクジェットノズルプレートにおいて、前記Si基板がSOI基板であり、該SOI基板の活性層に単一または複数のオリフィスが該活性層を貫通するように形成され、該SOI基板の支持体の前記オリフィスに対応する箇所に該支持体を貫通するようにテーパ穴が形成され、前記オリフィスと前記テーパ穴とは連通していることを特徴とするインクジェットノズルプレート。

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