特許
J-GLOBAL ID:200903050181595984
窒化ガリウム系材料及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-169526
公開番号(公開出願番号):特開2009-269816
出願日: 2009年07月17日
公開日(公表日): 2009年11月19日
要約:
【課題】より高い熱伝導率を有するGaN系材料の製造方法を提供する。【解決手段】HVPE(Hydride Vapor Phase Epitaxial Growth)法によって窒化ガリウム系材料を成長させる。この成長は、H2ガスを含むキャリアガスG1と、GaClガスG2と、NH3ガスG3とを反応室10に供給し、成長温度を900(°C)以上かつ1200(°C)以下とし、成長圧力を8.08×104(Pa)以上かつ1.21×105(Pa)以下とし、GaClガスG2の分圧を1.0×102(Pa)以上かつ1.0×104(Pa)以下とし、NH3ガスG3の分圧を9.1×102(Pa)以上かつ2.0×104(Pa)以下として実施する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
25(°C)における熱伝導率が2.8×102(W/m・K)以上であることを特徴とする窒化ガリウム系材料。
IPC (4件):
C30B 29/38
, C30B 25/16
, C23C 16/34
, H01L 21/205
FI (4件):
C30B29/38 D
, C30B25/16
, C23C16/34
, H01L21/205
Fターム (48件):
4G077AA02
, 4G077AA03
, 4G077AB01
, 4G077AB03
, 4G077AB08
, 4G077BE15
, 4G077DB05
, 4G077EA02
, 4G077EA04
, 4G077EA06
, 4G077EB06
, 4G077HA14
, 4G077TA04
, 4G077TA07
, 4G077TB03
, 4G077TC06
, 4G077TC08
, 4G077TJ03
, 4G077TJ04
, 4K030AA03
, 4K030AA13
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA08
, 4K030BA38
, 4K030BB02
, 4K030CA04
, 4K030CA17
, 4K030DA03
, 4K030DA08
, 4K030EA03
, 4K030FA10
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030KA04
, 5F045AA03
, 5F045AB14
, 5F045AC12
, 5F045AC13
, 5F045AC15
, 5F045AD13
, 5F045AD14
, 5F045AD15
, 5F045AD16
, 5F045AE25
, 5F045AF04
, 5F045AF09
, 5F045GB11
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