特許
J-GLOBAL ID:200903050206039330

不純物を含むガスを濾過および精製するための反応性膜およびそれを使用する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-505791
公開番号(公開出願番号):特表平9-503428
出願日: 1994年03月22日
公開日(公表日): 1997年04月08日
要約:
【要約】ガスより、不純物、例えば、水、酸素、有機化合物および金属性化合物を除去するための反応性膜が提供される。反応性膜は、多孔質基板と、多孔質基板上に析出させた活性部位を生ずるように改質されている少なくとも1つの炭素層とを含む。活性部位は、少なくとも一部脱酸素化され、かつ、炭素層に化学的に結合されている金属種を含む。反応性膜を形成する方法、活性部位を活性化および再生する方法、および、この膜を用いて、ガスより不純物を除去する方法も、また、提供される。
請求項(抜粋):
ガスより不純物を除去するための反応性膜であって、 (a)多孔質金属基板;および、 (b)多孔質基板上に析出させた少なくとも1つの炭素層を含み、 前記炭素層が、炭素層に化学的に結合した少なくとも一部脱酸素化された金属種を含む活性部位を生ずるように改質されている反応性膜。
IPC (2件):
B01D 39/20 ,  B01J 20/20
FI (2件):
B01D 39/20 Z ,  B01J 20/20 F
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特許第5196380号
  • 特開平1-262902
  • 特開平1-262902

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