特許
J-GLOBAL ID：200903050206686378

酸化チタン薄膜の製造法

発明者：
古賀 正太郎

古賀 正太郎 について


出願人/特許権者：
エヌオーケー株式会社

エヌオーケー株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-223724
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048539
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することによって酸化チタン薄膜を製造する方法において、結晶配向性を有ししかも光触媒性能を一段と向上せしめた酸化チタン薄膜を与え得る方法を提供する。【解決手段】 テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルにポリビニルピロリドンを添加して得られた酸化チタン膜形成用加水分解ゾルを、耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成して酸化チタン薄膜を製造する。
請求項（抜粋）：
テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルにポリビニルピロリドンを添加して得られた酸化チタン膜形成用加水分解ゾルを、耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することを特徴とする酸化チタン薄膜の製造法。
IPC (5件)：
C01G 23/053 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/00 ,  C02F 1/72 101
FI (5件)：
C01G 23/053 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/00 G ,  C02F 1/72 101
Fターム (30件)：
4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB01 ,  4D050AB02 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050AB15 ,  4D050AB18 ,  4D050AB19 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069AA15 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA15 ,  4G069EA07 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069FB23 ,  4G069FB30 ,  4G069FB77
引用特許：
審査官引用 (5件)
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