特許

J-GLOBAL ID：200903050214927082

液相成長装置および液相成長方法

発明者： 水谷 匡希 ,  吉野 豪人 ,  西田 彰志 ,  中川 克己
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-095997
公開番号（公開出願番号）：特開2003-292395
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】 基板を起立姿勢で確実に保持して溶液に浸漬し、基板の熱膨張による割れを防止でき、基板裏面の膜成長を抑制できる液相成長装置、および液相成長方法を提供する。【解決手段】 基板ホルダ部20により基板7を坩堝内の溶液に浸漬し、その基板上に結晶を成長させる液相成長装置であって、基板ホルダ部20が、連結部材3を介して相対向するように上下に配された受け部材2および押え部材1を備えており、受け部材2と押え部材1との間に基板7が起立姿勢で挟持され、基板7を溶液11に浸漬したときに、基板上部を支持する押え部材1に対して、基板下部を支持する受け部材2が浮上移動可能に形成されている。

請求項（抜粋）：

結晶原料の溶け込んだ溶液を収容する坩堝と、種子基板を保持する基板ホルダ部とを備え、該基板ホルダ部により種子基板を坩堝内の溶液に浸漬し、その基板上に結晶を成長させる液相成長装置において、前記基板ホルダ部が、連結部材を介して相対向するように上下に配された受け部材および押え部材を備えており、これら受け部材と押え部材との間に基板が起立姿勢で挟持され、基板を溶液に浸漬したときに、基板の上部を支持する押え部材に対して、基板の下部を支持する受け部材が浮上移動可能に形成されていることを特徴とする液相成長装置。

IPC (3件)：

C30B 19/06 ,  C30B 29/06 501 ,  H01L 21/208

FI (3件)：

C30B 19/06 Z ,  C30B 29/06 501 B ,  H01L 21/208 D

Fターム (24件)：

4G077AA03 ,  4G077BA04 ,  4G077CG02 ,  4G077EA02 ,  4G077EG05 ,  4G077EG07 ,  4G077HA06 ,  4G077QA04 ,  4G077QA12 ,  4G077QA54 ,  4G077QA66 ,  5F053AA03 ,  5F053BB08 ,  5F053DD01 ,  5F053DD03 ,  5F053DD20 ,  5F053FF01 ,  5F053GG01 ,  5F053JJ01 ,  5F053JJ03 ,  5F053LL01 ,  5F053LL05 ,  5F053LL10 ,  5F053RR05