特許
J-GLOBAL ID：200903050219699185
薄膜磁気ヘッドの製造方法及びその装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050571
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251221
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 磁性層に腐食を発生させることなく、エッチング速度が速く、対マスク選択比率も向上させることができる薄膜磁気ヘッドの製造方法、及びその実施に使用する装置を提供する。【解決手段】 第1チャンバ1内に、塩素系ガスを導入してプラズマを生成し、アルミナ又はアルチックを用いてなる絶縁層をエッチングする。第3チャンバ3に設けてある搬送用アームによって、減圧した第3チャンバ3を介して第1チャンバ1から第2チャンバ2へ基材を搬送する。第2チャンバ2内に酸素系ガスを導入してプラズマを生成し、基材に設けてあるレジスト及びエッチング処理にて生成された反応生成物の一部を前記プラズマによってアッシング除去する。アッシング処理済の基材を、搬出用ロードロック室14に設けてある搬出装置によって洗浄器5に搬出し、洗浄器5は、基材を回転させつつその表面を純水で洗浄する。
請求項（抜粋）：
絶縁層及び磁性層を積層した薄膜磁気ヘッド用基材を第1容器に装入し、該第1容器内に反応性ガスを導入してプラズマを生成し、得られたプラズマによって前記絶縁層をエッチングし、エッチングした薄膜磁気ヘッド用基材を前記第1容器から第2容器へ搬送し、それを第2容器内でアッシングして薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、前記反応性ガスとしてハロゲンを含むガスを用い、ハロゲンを含む反応生成物による前記磁性層の腐食を防止する雰囲気内で、前記薄膜磁気ヘッド用基材を前記第1容器から第2容器へ搬送し、前記第2容器でアッシングした薄膜磁気ヘッド用基材を洗浄液で洗浄することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Fターム (6件)：
5D033BA01
, 5D033BA41
, 5D033CA06
, 5D033DA08
, 5D033DA21
, 5D033DA31
