特許

J-GLOBAL ID：200903050221290570

シクロヘキセン誘導体の製造方法

発明者： 小林 修 ,  八谷 巌 ,  荒木 三晴 ,  石谷 暖郎 ,  高堀 健
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社
代理人 (1件)： 成瀬 勝夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-094496
公開番号（公開出願番号）：特開平6-305984
出願日： 1993年04月21日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】 回収及び再使用が可能な触媒を使用し、共役オレフィンと活性オレフィンとを反応させてシクロヘキセン誘導体を製造する方法を提供する。【構成】 触媒として希土類元素とペルフルオロアルカンスルホン酸類との塩からなる希土類触媒を使用し、共役オレフィンと活性オレフィンとを反応させてシクロヘキセン誘導体を製造する方法である。また、反応終了後は、この希土類触媒を回収し、必要により再使用する。【効果】 反応終了後の触媒回収が容易であり、また、必要によってはこの回収した触媒を再使用することができ、しかも、反応時間の短縮を可能になり、工業的に有利にシクロヘキセン誘導体を製造することができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】(但し、式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルコキシル基を示し、また、これらR1 、R2 、R3 、R4 、R5 及びR6 の何れか2つが一体となって環状構造の一部を形成してもよい)で表される共役オレフィンと、下記一般式(2)【化2】(但し、式中、R7 、R8 、R9 及びR10は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、ハロホルミル基、ホルミル基、カルボキシル基、カルバモイル基又はアミジノ基であり、また、これらR7 、R8 、R9 及びR10の何れか2つが一体となって環状構造の一部を形成してもよい。但し、R7 、R8 、R9 及びR10のうち、少なくとも1つはアルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、ハロホルミル基、ホルミル基、カルボキシル基、カルバモイル基又はアミジノ基である)で表される活性オレフィンとを反応させ、下記一般式(3)【化3】(但し、式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10は前記と同じである)で表されるシクロヘキセン誘導体を製造する方法において、触媒として下記一般式(4)RE(OSO2 Rf)3 ......(4)(但し、式中、REは希土類金属元素であり、Rfはペルフルオロアルキル基である)で表される希土類系触媒の存在下に反応させることを特徴とするシクロヘキセン誘導体の製造方法。

IPC (21件)：

C07B 37/12 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 2/46 ,  C07C 13/20 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/192 ,  C07C 45/69 ,  C07C 46/00 ,  C07C 47/42 ,  C07C 47/445 ,  C07C 49/543 ,  C07C 50/16 ,  C07C 50/22 ,  C07C 51/353 ,  C07C 57/26 ,  C07C205/10 ,  C07C253/30 ,  C07C255/46 ,  C07D263/22 ,  C07B 61/00 300