特許

J-GLOBAL ID：200903050227937192

大ビームレーザポリッシングを用いて眼の表面を改変する装置およびその装置を制御する方法

発明者： クリスティアン ホーラ
出願人/特許権者： テクノラス ゲーエムベーハー オフタルモロギッシェ システム
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-301529
公開番号（公開出願番号）：特開2001-157689
出願日： 1993年09月30日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 レーザポリッシングまたはディザリングを用いて角膜矯正を行い、眼の一部を切除するために使用されるショットを治療の中心軸から移動させて、治療ゾーンにおける大きな隆起の形成を防止する装置及び方法を提供する。【解決手段】 眼科システムは、エキシマレーザ20はパルスビーム22をビームホモジュナイザ24に与え、さらに調節可能なダイヤフラム36を透過して、所定位置にあるスポットモードレンズ38がさらにパルスビーム22を集中させる。これによりスポット切除が可能となる。集束レンズ40は、パルスビーム22が適切に眼44上に集束されるようにする。さらに集束レーザ46も備えられており、パイロットレーザ32か5のビームを集束レーザ46からのビームの両方が眼44の表面の同一点に衝突するように調節される。顕微鏡56も進行状況を観察されるために装備される。又、制御ユニット64はシステム全ての要素を制御する。

請求項（抜粋）：

眼の角膜を整形する方法であって、眼組織を除去するためにレーザ光を与えるステップ;該角膜上に該光のスポットを形成するステップ;ならびに、視力矯正する領域を得るために、該眼組織が除去されるべき該角膜の領域に対して、該角膜の該領域よりも小さな最大サイズまで該スポットのサイズを変更するステップ、および該角膜の該領域内の該角膜上で該スポットの位置を走査するステップ、を包含する、方法。

IPC (4件)：

A61F 9/007 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/10 ,  H01S 3/225

FI (4件)：

H01S 3/00 A ,  H01S 3/10 Z ,  A61F 9/00 511 ,  H01S 3/223 E

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-119935
  
• 特開昭64-086968
  
• 特公平3-033015