特許

J-GLOBAL ID：200903050236294970

粒状金属結晶とその製造方法

発明者： 北原 暢之 ,  鈴木 俊夫 ,  須田 昇 ,  菅原 信 ,  有宗 久雄
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361551
公開番号（公開出願番号）：特開2003-165800
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】 粒状シリコンを製造する場合において、結晶性の高い粒状シリコンを安定して作製すると同時に高い結晶性をもったシリコン粒子を低コストで製造することを目的とする。【解決手段】 坩堝1のノズル部2から金属融液を滴状に排出して落下させるとともに、この金属融液を落下中に冷却して凝固させることによって粒状金属結晶を製造する粒状金属結晶の製造方法であって、上記金属融液に結晶核となる粒子を添加してノズル部材から滴状に排出する。

請求項（抜粋）：

坩堝のノズル部から金属融液を滴状に排出して落下させるとともに、この金属融液を落下中に冷却して凝固させることによって粒状金属結晶を製造する粒状金属結晶の製造方法において、前記金属融液に結晶核となる粒子を添加して滴状に排出することを特徴とする粒状金属結晶の製造方法。

IPC (3件)：

C30B 30/08 ,  C01B 33/02 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C30B 30/08 ,  C01B 33/02 E ,  H01L 31/04 X

Fターム (17件)：

4G072AA01 ,  4G072BB06 ,  4G072BB07 ,  4G072BB20 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH33 ,  4G072JJ02 ,  4G072JJ26 ,  4G077AA01 ,  4G077BA04 ,  4G077CD10 ,  4G077ED01 ,  4G077HA20 ,  5F051AA02 ,  5F051CB02 ,  5F051DA01