特許

J-GLOBAL ID：200903050238122832

レチクル、レチクルの製造方法、露光装置及び露光方法

発明者： 白石 雅之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-132135
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329649
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 吸収体膜の内部応力を低減したレチクル、レチクルの製造方法、レチクルを用いた露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 本発明に係るレチクル10は、基板8上に形成されたX線反射鏡用多層膜12と、この多層膜12上に形成された、X線の使用波長域における複素屈折率の虚部が大きい物質からなり且つ所定のパターンを有する吸収体膜14と、を具備するものである。前記吸収体膜14の表面にはArイオンビームが照射されている。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたX線反射鏡用多層膜と、このX線反射鏡用多層膜上に形成された、X線の使用波長域における複素屈折率の虚部が大きい物質からなり且つ所定のパターンを有する吸収体膜と、を具備し、前記吸収体膜の表面には粒子線が照射されていることを特徴とするレチクル。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (3件)：

G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (10件)：

2H095BA10 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GB01 ,  5F046GB07 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10 ,  5F046GD16