特許
J-GLOBAL ID:200903050252212216
半導体装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-336720
公開番号(公開出願番号):特開2000-150460
出願日: 1995年05月18日
公開日(公表日): 2000年05月30日
要約:
【要約】【課題】薄いチップを安定かつ低コストで作成し、ハンドリングが容易な半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】テープ107に貼り付けられたウエハ105を、ウエハ105の面内で高速で回転または横方向に往復運動させ、ウエハ105の表面に対してエッチ液高速に横方向に移動させ、ウエハ105を均一にエッチングして薄くし、この薄いウエハをダイシングして得られた薄いチップ105 ́を加熱ヘッド106によって加熱圧接して、基板102上に固着する。薄いチップを安定かつ低コストで形成し、チップの割れを生ずることなしに基板に固着できる。
請求項(抜粋):
第1の基板上に保持された半導体ウエハの主面とエッチ液を接触させ、上記半導体ウエハの主面に沿って、上記エッチ液を高速度で動かすことによって、上記半導体ウエハの厚さを小さくする工程と、当該厚さを小さくされたウエハをカットして複数のチップに分離する工程と、当該チップを上記第1の基板から分離して第2の基板へ固着する工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
IPC (2件):
H01L 21/306
, H01L 21/301
FI (3件):
H01L 21/306 M
, H01L 21/78 M
, H01L 21/78 S
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