特許
J-GLOBAL ID:200903050253913595

コポリアリーレンエーテルスルホンを基剤とするブレンド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田代 烝治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-004028
公開番号(公開出願番号):特開平8-027380
出願日: 1995年01月13日
公開日(公表日): 1996年01月30日
要約:
【要約】【目的】 任意に処理、適切に加工される、低吸水性、優れた耐化学製品性を示すポリアリーレンスルホンを基剤とする新規の成形材料を提供すること。【構成】 A)91-97モル%の構造単位I、および3-9モル%の構造単位IIから成るコポリアリーレンエーテルスルホンを母材として55-99重量%、B)91-97モル%の構造単位IIおよび3-9モル%の構造単位Iから成るコポリアリーレンエーテルスルホンによる分散相1-45重量%、C)衝撃抵抗変性ゴム0-40重量%、D)繊維状または粒子状充填剤、またはこれらの混合物0-60重量%、およびE)加工助剤および/または添加剤0-40重量%から成るブレンド。
請求項(抜粋):
A)a1 )式(I)【化1】で示される構造単位91-97モル%、およびa2 )式(II)【化2】で示される構造単位3-9モル%から成るコポリアリーレンエーテルスルホンを母材として55-99重量%、B)b1 )構造単位(II)91-97モル%、およびb2 )構造単位(I)3-9モル%から成るコポリアリーレンエーテルスルホンによる分散相1-45重量%、C)衝撃抵抗変性ゴム0-40重量%、D)繊維状または粒子状充填剤、またはこれらの混合物0-60重量%、およびE)加工助剤および/または添加剤0-40重量%から成るブレンド。
IPC (2件):
C08L 81/06 LRF ,  C08L 71/10 LQK

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