特許

J-GLOBAL ID：200903050259152243

X線マスクブランク、X線マスク及びパターン転写方法

発明者： 笑喜 勉 ,  河原 孝光
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-334511
公開番号（公開出願番号）：特開平10-161300
出願日： 1996年11月29日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】 極めて低い応力を有し、したがって、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランク等を提供する。【解決手段】 基板11上に、X線透過膜12を有し、該X線透過膜12上にX線吸収体膜13を有するX線マスクブランクであって、前記X線吸収体膜の上及び/又は下に、膜応力と膜厚との積が、0〜±1×104dyn/cmである膜(14,15)を設ける。

請求項（抜粋）：

基板上に、X線透過膜を有し、該X線透過膜上にX線吸収体膜を有するX線マスクブランクであって、前記X線吸収体膜の上及び/又は下に、膜応力と膜厚との積が、0〜±1×104dyn/cmである膜を設けたことを特徴とするX線マスクブランク。

IPC (3件)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/302 J