特許

J-GLOBAL ID：200903050265597451

イオンビーム加工装置

発明者： 大石 鉦太郎 ,  関本 信也
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 笹岡 茂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-243396
公開番号（公開出願番号）：特開平8-083834
出願日： 1994年09月12日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【目的】 試料の加工精度及び冷却性能の向上と加工装置の高スループット化に好適なイオンビーム加工装置を提供することにある。【構成】 導入したガスをプラズマ化し、イオンを生成させるイオン源と、このイオンを照射する試料を保持する試料ホルダと、試料ホルダを駆動する駆動機構と、真空チャンバとを備えるイオンビーム加工装置において、試料ホルダをイオン源の口径と概略同一サイズとし、かつ、その内・外周に複数列配置することにより、また、内・外周に複数列配置した試料ホルダに、それぞれ自公転機構及び冷却機構を設け、自公転機構内に設けた冷却機構を介して各試料ホルダの裏面側まで冷却水を供給し、試料を直接冷却する。

請求項（抜粋）：

導入したガスをプラズマ化し、イオンを生成させるイオン源と、このイオンを照射する試料を保持する試料ホルダと、試料ホルダを駆動する駆動機構と、真空チャンバとを備えるイオンビーム加工装置において、試料ホルダをイオン源の口径と概略同一サイズとし、かつ、その内・外周に複数列配置することを特徴とするイオンビーム加工装置。

IPC (8件)：

H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  C23C 14/50