特許
J-GLOBAL ID：200903050284113783
メッキ構造体及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
武 顕次郎
, 市村 裕宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-168740
公開番号（公開出願番号）：特開2004-011000
出願日： 2002年06月10日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】薄型にして垂直面の高さが大きなメッキ構造体を提供すること、及びかかるメッキ構造体を高価かつ大掛かりな装置や複雑なプロセスを用いることなく容易かつ高能率に作製可能な方法を提供すること。【解決手段】メッキ構造体については、金属膜又は合金膜からなる第1パターン2及び第2パターン6と、これら第1及び第2のパターン2,6を一体に接合するメッキ生成物からなるメッキ接合部11とを有する構成とする。メッキ構造体の製造方法については、第1パターン2を有する第1基板1及び第2パターン6を有する第2基板5を作製した後、第1基板1上に第2基板5を粘着剤10で仮固定し、第1パターン2と第2パターン2の突き合わせ部の近傍をメッキ接合部11にて接合する構成とする。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
デバイス基板と、当該デバイス基板の片面に形成された金属膜又は合金膜からなる第1パターンと、当該第1パターン上に配置された金属膜又は合金膜からなる第2パターンと、前記第1パターンと前記第2パターンとを接合するメッキ生成物からなるメッキ接合部とを備えたことを特徴とするメッキ構造体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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