特許

J-GLOBAL ID：200903050284436345

感光性組成物及びそれを用いたパタン形成方法

発明者： 服部 孝司 ,  服部 恵子 ,  野々垣 三郎 ,  森下 ▲元▼
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-008958
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197669
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィー技術を用いてパタン形成を行う際、露光光の基板からの反射で起きるパタン寸法の変動,変形を解決するために、レジスト材料の下層に吸収の大きい反射防止層を用いる。この際、中間層に水溶性の薄膜を用いると上層下層レジスト間で剥離が起きやすく微細パタンの形成ができない。【解決手段】基板上にネガ型フォトレジスト膜を形成し、前記ネガ型フォトレジスト膜上に、側鎖にアルデヒド基を持つ水溶性ポリビニルアルコール誘導体と光酸発生剤を含む感光性組成物からなる膜を形成し、さらにその上に別のネガ型フォトレジスト膜を形成し、所望のパタンの露光を行う。

請求項（抜粋）：

側鎖にアルデヒド基を持つ水溶性ポリビニルアルコール誘導体と光酸発生剤を含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/033 ,  C08F 8/00 MFZ ,  C08F 16/04 MKV ,  C08L 29/04 LGW ,  C08L 29/14 LHA ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/033 ,  C08F 8/00 MFZ ,  C08F 16/04 MKV ,  C08L 29/04 LGW ,  C08L 29/14 LHA ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R