特許

J-GLOBAL ID：200903050289823169

フォトレジスト剥離用組成物

発明者： 藤本 秀機
出願人/特許権者： 東レ・ファインケミカル株式会社
代理人 (1件)： 香川 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178927
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016882
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】アルミニウム等の導電膜を全く腐食することなく、エッチング時に形成されるレジスト変性物、および側壁保護膜を低温で短時間で剥離処理できるフォトレジスト剥離用組成物を提供する。【解決手段】非プロトン性極性溶媒が5〜90重量%、水が1〜70重量%、フッ化物が0.01〜20重量%、および第四級アンモニウム塩もしくはヒドロキシルアミン類が0.01〜20重量%からなるフォトレジスト剥離用組成物。

請求項（抜粋）：

非プロトン性極性溶媒、水、フッ化物および第四級アンモニウム塩もしくはヒドロキシルアミン類からなることを特徴とするフォトレジスト剥離用組成物。

IPC (6件)：

H01L 21/306 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/306 E ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B