特許

J-GLOBAL ID：200903050299421239

エアナイフ乾燥方法

発明者： 木村 茂
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-040189
公開番号（公開出願番号）：特開平8-236498
出願日： 1995年02月28日
公開日（公表日）： 1996年09月13日
要約：

【要約】【目的】枚葉式の洗浄,ウェットエッチング,レジスト剥離等のリンス液をエアナイフ乾燥する際に揆水性を示したガラス基板においてもウォータマークの発生を防ぐことを目的とする。【構成】エアナイフ3の直前にスリット状リンス液シャワー4を設置し、ガラス基板1の信号方向にリンス液8を吐出させる。これによりエアナイフ乾燥する時は常にガラス基板1は、一様に濡れ、水玉の発生を防ぎ、エアナイフ乾燥後のウォータマークの発生を防ぐ。

請求項（抜粋）：

枚葉式で基板の洗浄,ウェットエッチング,レジスト剥離等を行うリンス液を空気又は不活性ガス等によりエアナイフ乾燥を行う方法において、エアナイフ乾燥の直前まで基板が一様にリンス液で覆われていることを特徴とするエアナイフ乾燥方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 361 H ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 351 C ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/306 J