特許

J-GLOBAL ID：200903050302322581

フォトリフラクティブ高分子

発明者： ハリ・シング・ナルワ ,  角田 敦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110720
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318991
出願日： 1994年05月25日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【構成】有機電気光学材料,有機光導電材料及び増感剤から構成されるフォトリフラクティブ高分子。【効果】高い安定性,大きな光導電性,電気光学特性,成型性,機械的強度を示すフォトリフラクティブ高分子が得られ、各種のエレクトロニクス,フォトニクス素子に適用できる。

請求項（抜粋）：

構造中に光導電性を示す基を有することを特徴とするフォトリフラクティブ高分子。