特許

J-GLOBAL ID：200903050304579121

画像修正方法およびシステム

発明者： 野田 智孝 ,  河合 直樹
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-206172
公開番号（公開出願番号）：特開2003-023536
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】 模様画像において柄癖が生じた場合に、その画像自身の質感を、柄癖の原因となっている部分に再現することにより柄癖を除去する画像修正方法およびシステムを提供する。【解決手段】 原画像上において修正対象領域を指定し、指定された修正対象領域の各画素を決定する際に、この修正対象領域の各画素の決定を、修正対象領域に対応する縮小修正画像領域上に所定の形状のマスクを配置し(a)、当該マスクと同形状のマスクを縮小原画像上(b〜e)に配置し、縮小修正画像領域上のマスクの位置は固定したまま、縮小原画像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、縮小修正画像領域上でマスクされた領域と縮小原画像上でマスクされた領域の類似度を求め、この類似度が最も高いと判定される縮小原画像(e)上のマスクとの位置関係が、縮小修正画像領域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係と同一となる位置関係にある画素を、縮小修正画像領域上の画素として割り当てることにより行う。

請求項（抜粋）：

原画像上において修正対象領域を指定する段階と、前記指定された修正対象領域の各画素を決定する段階と、を有し、前記修正対象領域の各画素の決定は、前記修正対象領域上に所定の形状のマスクを配置し、当該マスクと同形状のマスクを前記原画像上の前記修正対象領域以外の部分に配置し、前記修正対象領域上のマスクの位置は固定したまま、前記原画像上のマスクを1画素分ずつ移動させながら、前記修正対象領域上でマスクされた領域と前記原画像上でマスクされた領域の類似度を求め、当該類似度が最も高いと判定される原画像上のマスクとの位置関係が、前記修正対象領域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係と同一となる位置関係にある画素を、前記修正対象領域上の画素として割り当てるものであり、修正対象領域上に配置するマスクが修正対象領域からはみ出す部分については、原画像上の画素を利用することにより行うことを特徴とする画像修正方法。

IPC (4件)：

H04N 1/387 ,  G06T 7/60 150 ,  G06T 11/80 ,  H04N 1/393

FI (4件)：

H04N 1/387 ,  G06T 7/60 150 B ,  G06T 11/80 B ,  H04N 1/393

Fターム (17件)：

5B050BA06 ,  5B050BA18 ,  5B050CA07 ,  5B050EA03 ,  5B050EA12 ,  5B050EA18 ,  5C076AA01 ,  5C076AA22 ,  5C076BA06 ,  5C076BB07 ,  5L096BA18 ,  5L096CA24 ,  5L096EA03 ,  5L096EA14 ,  5L096FA69 ,  5L096GA10 ,  5L096JA03