特許
J-GLOBAL ID：200903050316769953
フォトマスクブランク、フォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238527
公開番号（公開出願番号）：特開2003-075991
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：
【要約】【課題】 パターン精度の高いフォトマスクを製造できるフォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 フォトマスクブランクの主表面1の凹凸形状が、該主表面に略平行な基準平面2に対して略平行な平面であるか又はほぼ単純な凸状もしくは凹状となる曲面形状をなしている。
請求項（抜粋）：
透光性基板に転写用微細パターンが形成されてなるフォトマスクの素材として用いられるフォトマスクブランクの良否を判定するフォトマスクブランクの検査方法であって、一定水準以上の平坦度を有するフォトマスクブランクの主表面の凹凸形状を測定し、この主表面の凹凸形状が、該主表面に略平行な基準平面に対して略平行な平面であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな増加傾向を示す単純な凹状の曲面形状であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな減少傾向を示す単純な凸状の曲面形状であるか否かにより、良否を判定するフォトマスクブランクの検査方法によって良品と判別されたフォトマスクブランクであって、主表面の平坦度が所定の水準以上であり、かつ、主表面の凹凸形状が、該主表面に略平行な基準平面に対して略平行な平面であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな増加傾向を示す単純な凹状の曲面形状であるか、又は、前記主表面の高さ分布が該主表面の中心から周縁に向かって滑らかな減少傾向を示す単純な凸状の曲面形状であることを特徴とするフォトマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 1/14
, H01L 21/027
G03F 1/08 Z
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 S
, G03F 1/14 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB01
, 2H095BC28
, 2H095BD01
