特許

J-GLOBAL ID：200903050320283097

酸化物被膜形成用塗布液、酸化物被膜の製造法および半導体装置

発明者： 森嶋 浩之 ,  島村 泰夫 ,  山本 靖浩
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-321823
公開番号（公開出願番号）：特開平8-034957
出願日： 1994年12月26日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】 安定で、成膜性の良好な酸化物被膜を生成する酸化物被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 (A)一般式【化1】(Rは水素または炭素数が1〜4のアルキル基を意味し、nは5〜1000の整数である)で表わされるポリシラザン樹脂ならびに(B)一般式【化2】(R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)および/または一般式【化3】(R′′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物を含有してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を用いた酸化物被膜の製造法、この酸化物被膜を用いた半導体装置。

請求項（抜粋）：

(A)一般式【化1】(Rは水素または炭素数が1〜4のアルキル基を意味し、nは5〜1000の整数である)で表わされるポリシラザン樹脂ならびに(B)一般式【化2】(R′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物および/または一般式【化3】(R′′は、炭素数1〜4のアルキル基を意味する)で表わされるフッ素アルコキシシラン化合物を含有してなる酸化物被膜形成用塗布液。

IPC (4件)：

C09D183/16 PMT ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/24 302 ,  H01L 21/316