特許
J-GLOBAL ID:200903050349933180
ガスセンサ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須山 佐一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-238021
公開番号(公開出願番号):特開平5-072162
出願日: 1991年09月18日
公開日(公表日): 1993年03月23日
要約:
【要約】【目的】 エタノール、プロパンおよび一酸化炭素等の雑ガスに対する感度を向上させると共に、長時間の使用あるいは高湿雰囲気での使用におけるガス感度の変化を抑制し、経時安定性を向上させる。【構成】 ヒータ2を内蔵する絶縁基板1上には、対向して形成された一対の電極3、4が設けられている。これら一対の電極3、4に跨って金属酸化物半導体からなるガス感応膜5が形成されている。このガス感応膜5を覆うように、銅、タングステン、ニッケル、およびリンの4種類の元素もしくはその酸化物をアルミナ担体に担持させた触媒により構成された触媒層6を設ける。
請求項(抜粋):
絶縁性基板と、この絶縁性基板上に対向して形成された一対の電極と、これら一対の電極に跨って形成された金属酸化物半導体からなるガス感応膜と、このガス感応膜を覆うように形成された触媒層とを具備するガスセンサにおいて、前記触媒層は、アルミナを担体とし、この担体に銅、タングステン、ニッケルおよびリンもしくはその酸化物を担持させた触媒により構成されていることを特徴とするガスセンサ。
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