特許

J-GLOBAL ID：200903050351376557

レリーフ型回折光学素子、およびレリーフ型回折光学素子製造用の型

発明者： 大出 寿
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-146086
公開番号（公開出願番号）：特開平10-332918
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】 集光点での強度が高く、かつ容易に製造できるレリーフ型回折光学素子を提供する。【解決手段】 不等間隔格子パターン2を有するレリーフ型回折光学素子1において、1つのゾーン内でレリーフ面の傾き角が異なる箇所を有する断面形状を示す第1のゾーン群と、1つのゾーン内でレリーフ面の傾き角が一定の断面形状を示す第2のゾーン群とを有し、前記第1のゾーン群は、ピッチが最も大きいゾーンを含み、各ゾーンの断面形状の斜辺部を2本以上の直線で構成した形状を有し、前記第2のゾーン群は、位相シフト関数から導かれる断面形状の斜辺部を直線で近似した形状を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

不等間隔格子パターンを有するレリーフ型回折光学素子において、1つのゾーン内でレリーフ面の傾き角が異なる箇所を有する断面形状を示す第1のゾーン群と、1つのゾーン内でレリーフ面の傾き角が一定の断面形状を示す第2のゾーン群とを有し、前記第1のゾーン群は、ピッチが最も大きいゾーンを含み、各ゾーンの断面形状の斜辺部を2本以上の直線で構成した形状を有し、前記第2のゾーン群は、位相シフト関数から導かれる断面形状の斜辺部を直線で近似した形状を有することを特徴とするレリーフ型回折光学素子。

IPC (4件)：

G02B 5/18 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08

FI (4件)：

G02B 5/18 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/08