基板の回転塗布装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-129571
公開番号（公開出願番号）：特開平7-308625
出願日： 1994年05月18日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：

【要約】【目的】基板上に塗布液を塗布して均一な薄膜を形成させることができ、基板の品質をより一層向上させることができる基板の回転塗布装置を提供すること。【構成】ターンテーブル2は基板1を保持して回転する。回転する基板1には塗布液供給手段4により塗布液が供給させる。飛散防止手段20は、ターンテーブル2に保持された基板1の周囲に関連して配置されて塗布液の飛散を防止する。この飛散防止手段20は、孔10とこの孔10から基板1の周辺に向かうに従って、基板1に近づくように形成された傾斜部分7aを備えている。排気手段12,13は飛散防止手段20内を排気する。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転するターンテーブルと、回転する上記基板に塗布液を供給する塗布液供給手段と、上記ターンテーブルで保持された上記基板の周囲に関連して配置されて上記塗布液の飛沫の飛散を防止する飛散防止手段であって、上記ターンテーブルで保持された上記基板の中心部から周辺部へ向かう領域に外気エアーの流れを得るための開口部を備え、しかも上記ターンテーブル上に保持されている上記基板に対面する部分が、上記開口部から上記基板の周辺部分に向かっていくに従って、上記基板に近づくように形成されている飛散防止手段と、上記飛散防止手段内を排気するための排気手段と、を備えることを特徴とする基板の回転塗布装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭63-148632
特開昭60-132676

審査官引用 (2件)

特開昭63-148632
特開昭60-132676

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